Normas de control y recomendaciones de métodos para el LS 13 320 XR
Resumen
El LS 13 320 XR presenta un rango de análisis de partículas mejorado de forma significativa que abarca de 10 nm a 3500 µm. El sistema de detección óptica y electrónica mejorado amplía el rango de análisis proporcionando una capacidad de medición real de 10 nm a 3500 µm, a la vez que mejora la discriminación individual. Con esta nueva capacidad, se obtiene un nuevo conjunto de normas de control para verificar adecuadamente el rendimiento del instrumento/módulo. Las comprobaciones periódicas del rendimiento en el laboratorio proporcionan al cliente confianza en que su sistema de medición funciona a los mejores niveles de rendimiento.
Introducción
Las tablas siguientes detallan las importantes normas de control y de configuración del método. El nuevo Software ADAPT permite la creación de métodos para incluir parámetros específicos y críticos ubicados en la tabla siguiente. Las comprobaciones periódicas de calidad demostrarán la capacidad del equipo e inspirarán confianza en el instrumento y podrán satisfacer los requisitos y las preocupaciones del departamento de calidad.
Métodos ULM
| Nombre del método | Calidad de la muestra | Tipo de módulo | Ejecuciones | Tiempo de ejecución | Carga de muestras | Desburbujeo | Velocidad de la bomba de circulación | Aclarar antes | Modelo óptico | ¿Usar PIDS? | Líquido de transporte | Número de lote de control |
| PSL de 40 nm ULM | 25 gotas | ULM | 3 | 90 | 4-6 % | Sí | 15 % | Sí | Poliestireno | Sí | Agua | C12537 |
| 100 nm PSL ULM | 4-5 gotas | ULM |
3 | 90 | 14-18 % | Sí | 15 % | Sí | Poliestireno | Sí | Agua | C12538 |
| Latron ULM de 300 nm | 1 gota | ULM |
3 | 90 | <> | Sí | 15 % | Sí | Poliestireno | Sí | Agua | 7800377 |
| Tri-modal 85, 200, 500 nm PSL ULM | 1 gota | ULM |
3 | 90 | 12-20 % | Sí | 15 % | Sí | Poliestireno | Sí | Agua | C18128 |
| 1 μm de PSL ULM | 3-4 gotas | ULM | 3 | 90 | 5-12 % | Sí | 35 % | Sí | Poliestireno | Sí | Agua | C12541 |
| G15 ULM (~15 μm) | 0,5 gramos + 6 gotas de dispersante IIA | ULM |
3 | 90 | 10 % | Sí | 40 % | No | Carburo de sílice RI=2,65, i=0 | No | Agua | 7800370 |
| GB500 ULM (~500 μm) | 1 gramo | ULM |
3 | 90 | 7-8 % | Sí | 35 % | No | Microesferas de vidrio (RI=1,51, i=0) | No | Agua | 7800372 |
| 1 mm de ULM acrílico | 0,2 gramos | ULM |
3 | 90 | >1,5 % | Sí | 35 % | Sí | Acrílico | No | Agua | C20787 |
| IIA dispersante | AR | ULM |
N/D | N/D | N/D | N/D | N/D | N/D | N/D | N/D | N/D | 6600706 |
Métodos de tornado DPS
| Nombre del método | Cantidad de material | Tipo de módulo | *Modo avanzado | Método de suavizado | Ponderación de suavizado | Carga de muestras | Velocidad de la centrifugación | Velocidad de elevación | Modelo óptico | Líquido de transporte | Número de lote de control |
| GB500 ULM (~500 μm) | 2,5 gramos | Tornado | Sí | 3 | 3 | 8 % | 50 % | 30 % | Microesferas de vidrio (RI=1,51, i=0) | Aire | 7800372 |
| G35D (~35 μm) | 5 gramos | Tornado | No | N/D | N/D | 5-7 % | 50 % | 30 % | Carburo de sílice RI=2,65, i=0 | Aire | 7800499 |
| 3 mm de PSL | 5 gramos | Tornado | No | N/D | N/D | 8 % | 50 % | 25 % | Poliestireno | Aire | C21940 |